과학기술정보통신부에서는 극한 박막 vdW 소재를 활용한 초고집적 3D DRAM 반도체 기술개발을 통하여 미래 3D 반도체 신격차 기술 확보를 위하여 「초고집적 반도체용 vdW 소재 및 공정기술개발」사업의 2025년도 신규과제 선정계획을 아래와 같이 재공모하오니 연구자분들의 많은 관심과 참여 바랍니다.

☞「국가연구개발혁신법」제2조제3호 및 동법 시행령 제2조에서 정하는 기관 및 단체

- 단 기업의 경우,「기초연구진흥 및 기술개발지원에 관한 법률」제14조의2제1항에 따라 인정받은 기업부설 연구소 또는 연구개발전담부서를 보유한 기관 및 단체

※ 자세한 지원대상 공고문 참조

☞ 극한 박막 vdW 소재를 활용한 초고집적 3D DRAM 반도체 기술개발을 통하여 미래 3D 반도체 신격차 기술 확보 지원

※ 자세한 지원내용 공고문 참조